会议背景

半导体湿电子化学品，是指主体成分纯度大于99.99%，杂质和微粒浓度符合严格要求的化学试剂，主要由上游酸、碱、醇、酮等为原料，经过预处理、过滤、提纯等工艺生产得到的高纯度半导体化学品材料，按功能途径可大致分为清洗剂、研磨液、光刻胶配套试剂、蚀刻液、显影液、掺杂试剂、电镀液等。

半导体制造用湿电子化学品用量虽小，但生产技术要求最高，产品纯度、杂质含量等要求也是最高。目前半导体湿电子化学品市场主要由欧美及日本顶尖化工企业如巴斯夫、默克、霍尼韦尔、三菱化学、住友化学、京都化工等所占据。

电子气体种类繁多，是半导体制造过程中的重要材料，可以分为大宗气体、外延气体、蚀刻气体、掺杂气体等。由于现在对半导体产品的性能及参数要求极为苛刻，因此对产品制造的环境要求就变得极为严格。由于晶圆制造过程对电子气体的需求很大，又对气体本身的纯度要求很高，因此目前晶圆制造用电子气体的市场主要被掌握着高纯工艺、能大规模量产的欧、美、日巨头公司所占据，如美国空气化工、美国普莱克斯、林德集团、法国液化空、日本大阳日酸、昭和电工等。

随着中国半导体制造产业迅速发展，湿电子化学品、电子气体也将迎来空前发展机遇。

半导体湿电子化学品与电子气体论坛将于2020年6月29-30日在上海召开。会议由亚化咨询主办，多家国内外龙头企业将重点参与，探讨未来半导体材料，特别是湿电子化学品和特种气体的国际经验和中国机遇与挑战。

会议主题

1. 半导体产业政策与电子材料市场前景

2. 湿电子化学品与电子气体的全球与中国市场

3. 中美和日韩贸易争端对电子化学品市场的影响

4. 酸、碱、醇、酮类电子化学品技术与市场

5. 硅族特种气体及其前驱体

6. 掺杂气体、蚀刻清洗气体、金属气相沉积气体

7. 半导体清洗剂与研磨液

8. 半导体封装用电镀液

9. 半导体刻蚀液

10. 半导体材料生产安全与环保

11. 半导体园区或展览参观

会议日程

2020年6月29日   17:00~20:00   会前注册

2020年6月30日   09:00~12:30   演讲报告

                              12:30~14:00   自助午餐与交流

                              14:00~18:30   演讲报告

                              18:30~20:00   招待晚宴