EUV光刻技术是21世纪光刻领域的最新研发进展，EUV的曝光波长为13.5nm，这为相应的光源、光罩和光刻胶的设计和使用带来了前所未有的挑战。2020年11月，BusinessKorea报道，韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得重大进展。
报道显示，韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年，韩国本土提出的专利申请数量为40件，超过了国外企业的10件。这是韩国提交的专利申请首次超过国外。2020年，韩国提交的申请数量也是国外的两倍多。
过去10年，包括三星电子在内的全球企业进行了密集的研发，以确保技术领先地位。最近，代工公司开始使用5nm EUV光刻技术来生产智能手机的应用处理器。
从公司来看，全球六大公司的专利申请数占了总数的59%，卡尔蔡司（德国）18%，三星电子（韩国）15%，ASML（荷兰）11%，S&S Tech（韩国）8%，台积电（中国台湾）6%，SK海力士（韩国）1%。
ASML第三季度财报数据显示，当季ASML共获得60台光刻机的销售收入，总额共31亿欧元，其中EUV光刻机14台，收入占比达到了66%。显然随着先进制程的不断演进，EUV光刻技术成了全球半导体龙头企业的兵家必争之地。以EUV光刻胶为例：
全球能够生产光刻胶的企业比较少，主要由美国Shipley（已被陶氏收购）、Futurrex；德国Microresist Technology、Allresist；日本东京应化、JSR、信越化学、住友化学；瑞士GES；韩国东进化学、东有精细化学；台湾长春集团、亚洲化学等，这些企业占据全球超过95%的市场份额。
来源：TOK
*高密度集成光刻胶包括先进封装用光刻胶、MEMS制造用光刻胶等
*EUV光刻胶属于其他一类
由上图可见，目前EUV光刻胶所占的份额还小。光刻胶市场主要还集中在g/i线、KrF、ArF光刻胶上。TECHCET数据显示，2020年全球EUV光刻胶市场预计将超过1000万美元，并且未来3年内增速将超过50%。
来源：TOK
目前EUV光刻胶的市场几乎日本TOK、信越化学、JSR所占据。但不少其他光刻胶企业也在虎视眈眈。
2020年初，日经消息称，杜邦将扩建位于韩国中部天安市的现有工厂，生产EUV光刻胶。计划首先投入2800万美元，确立量产技术，最早于2021年启动量产投资。
2020年10月据日经亚洲评论报道，FUJIFILM 和住友化学最早将于2021年开始供应下一代芯片制造的光刻胶。其中FUJIFILM将投资45亿日元用于日本静冈县的生产设备，该厂最早将于明年开始量产；住友化学计划在2022财年之前，为大阪的一家工厂投入从研发到生产的全部光刻胶产能。
2020年10月，据日经报道，日本信越化学将斥资约2.85亿美元在日本和中国台湾地区兴建工厂，其中台湾工厂预计于2021年2月开始量产，可生产与EUV光刻技术兼容的光刻胶。
中国光刻胶生产技术与国际先进产品相差几代。现有的多家企业虽已能满足PCB用光刻胶的生产，并能供应部分FPD用光刻胶，但对于高端IC用光刻胶领域仍然停留在初级阶段，国产化率极低。对于最前沿的EUV光刻胶，目前有研发的仅有科华微一家。
